コネ姉さん：
今回のニューヨーク視察ミッションで、日本とNY CREATESの連携が一段と進展しているのが見えてきましたわね。特にオルバニーが州全体の半導体研究の中核を担っているという点、注目に値しますわ。

セカくん：
わくわくするっす！NY CREATESって、アイメックと比べて商業化までのスピードが早いって紹介されてましたよね？これって日本企業にとってどんな意味があるんすか？

コネ姉さん：
とても大きな意味があるわ。5～7年で商業化を目指す開発体制は、迅速な市場投入を目指す日本企業には理想的なパートナー。しかも、共同研究によって日本の技術もグローバルスタンダードに近づけるんですのよ。

ボス：
ふむ…それにしても、東京エレクトロンの研究センターがもう20年もそこにあるとはな。アメリカにそんなに深く根付いてたのか。

コネ姉さん：
そうですわ。TCCAの存在は、日本の技術がすでに米国の先端拠点と長年連携してきた証拠。今後の連携では、この既存ネットワークを活かすことがカギになるでしょうね。

セカくん：
あと、ASMLの高NA EUV露光装置って導入されるってありましたけど、これは今後の半導体開発にどう影響するんすか？

コネ姉さん：
EUV露光は現在の最先端微細加工技術よ。NA（開口数）を高めることで、回路をさらに細かく刻めるの。つまり、次世代チップの開発に不可欠な技術ってわけね。

ボス：
だが、こんな最先端の研究開発と、日本の地方の企業とかがうまく連携できるもんなのか？格差がありそうだが…。

コネ姉さん：
まさにそこがMoUの狙いですわ。ジェトロが橋渡し役となって、日本の地方エコシステムを国際的な拠点とつなぐことで、格差を埋めつつ新しい連携モデルを構築していくのですわ。

セカくん：
SUNYやレンセラー工科大学とも連携してるって、大学間の国際共同研究のチャンスも広がりそうっすね！人材育成にもつながるんすか？

コネ姉さん：
もちろん。実践的な教育プログラムやインターンシップの場としてもNY CREATESは魅力的。将来的に日米で活躍する半導体人材の育成にも大きく貢献するでしょうね。

ボス：
ふむ…なるほど、単なる技術のやりとりじゃなく、人材の行き来も含めて“本気の連携”ってことか。

コネ姉さん：
その通りですわ。産官学連携の枠組みを超えて、国際的なイノベーション拠点との協働が、日本の半導体復活の大きな鍵になるんですのよ。

セカくん：
じゃあ、今回の視察って、ただの見学じゃなくて、次のプロジェクトにつながる一歩ってことっすね！日本企業の動きが楽しみっす！

コネ姉さん：
そうね。この訪問がスタートライン。今後の共同開発や技術連携の動きに注目が集まるのは間違いありませんわ！